일반화된 회귀신경망과 유전자 알고리즘을 이용한 식각 마이크로 트렌치 모델링

이덕우 ,  김병환

정보 및 제어 논문집

2005 .05

플라즈마 실리콘 OXYNITRIDE막의 구조적 특성에 관한 고찰

成英權 ,  李鐵眞 ,  崔福吉

전기학회논문지

1992 .05

실리콘 마이크로머시닝을 위한 자기 정렬 특성을 갖는 새로운 실리콘 식각방법과 식각특성분석

李熙德 ,  金載官 ,  鄭訓周 외 1명

전기학회논문지

1996 .10

실리콘 마이크로 머시닝을 위한 2단계 전기화학적 실리콘 식각 방법 ( Two-Step Electrochemical Silicon Etching Method for Silicon Micromachining )

김재관 ,  이희덕 ,  한철희

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

단결정 실리콘의 이방성 식각특성

천인호 ,  김환영 ,  조남인

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

단결정 실리콘의 이방성 식각특성 ( Anisotropic Etching Property of Silicon-Crystal Silicon )

천인호 ,  김환영 ,  조남인

대한전자공학회 학술대회

1997 .07

PLASMA SILICON OXYNITRIDE 막의 DEPOSITION 조건에 따른 막의 구조적 특성 고찰 ( A Study on the Structure Characteristics of Plasma Silicon Oxynitride Film According to Deposition Condition )

이철진 ,  성영권 ,  안용철

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

저압화학기상성장법으로 제작된 실리콘 옥시나이트라이드의 pH 농도감지특성 조절에 관한 연구

申白均

전기학회논문지

1997 .03

PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석

조유정 ,  한길진 ,  김영철

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

펄스 플라즈마를 이용한 식각

양경채 ,  김수강 ,  신예지 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .11

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

반도체 공정에 적합한 실리콘 이방성 식각에 관한 연구 ( A Study on Anisotropic Etching of Silicon Suitable for IC Process )

정귀상 ,  박진성

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

반도체 공정에 적합한 실리콘 이방성 식각에 관한 연구

정귀상 ,  박진성

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD

Yung Kwon Sung

KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING

1992 .01