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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 창립 60주년 기념 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2005.11
수록면
262 - 267 (6page)

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In the present study, using photothermal effect, the photothermal deflection method is applied to measure the thermal conductivity of bulk and thin film metals. The experimental setup is equipped much more accurately than the previous photothermal deflection methods in the view of optical alignment. The used specimens are the pure and bulk metals with the purity over 99.98%, the thin film metal deposited in fused silica, and the oxide thin film deposited in silicon wafer. The difference of thermal conductivity between thin film and bulk of same material is shown within 2% when the thin film materials are optically thick. When the thin film is optically thin, it is difficult to measure it. However, the thermal conductivity of the p and n type silicon wafer used as the substrate can be measured, which has not existed previously.
#Photothermal Deflection(광열편향) #Photothermal Effect(광열효과) #Thermal Conductivity(열전도) #Non-contact Method(비접촉식)

목차

Abstract
1. 서론
2. 측정원리 및 이론
3. 실험장치 및 방법
4. 결과 및 검토
5. 결론
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-550-016011401