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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 창립 60주년 기념 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2005.11
수록면
183 - 188 (6page)

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Collimation proximity exposure system that transfers the pattern on wafer or glass exactly using mask and light with appropriate wavelength is core process in semiconductor and liquid display element which used in PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display) and FED(Field Emission Display), etc. Performances of resolution required in precision exposure system are evaluated by resolving power, depth of focus and storage area. The optical design including lamp house has played an important role on the performance of exposure process. In this study, we evaluate the cooling system, concerning on exposure device with mercury lamp among the kernel equipment for the production of LCD(Liquid Crystal Display), to prevent the instability of lighting due to long term accumulation of excessive heating inside the lamp house. The characteristics of three-dimensional flow, pressure and heat distribution with time variable about exposure system are graphically depicted to estimate the cooling systems for a lamp house.

목차

Abstract
1. 서론
2. 수치적 연구
3. 실험적 연구
4. 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-550-016011269