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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2007.6
- 수록면
- 81 - 83 (3page)
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Etching of NiFe films covered with an organic photo-resist or Ti was successfully performed by an inductively coupled plasma-reactive ion etching (ICP-RIE) system using CHF₃/O₂/NH₃ discharges exchanging CHF3 for CH₄ gas gradually. Experimental results showed that the organic photo-resist mask can be applied to the NiFe etching. I ... 전체 초록 보기
목차
1. Introduction
2. Experiment
3. Results and Discussion
4. Conclusion
Acknowledgements
References
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