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논문 기본 정보

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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제23권 제1호
발행연도
2006.1
수록면
89 - 96 (8page)

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In this study, fabrication of the large area silicon mirror is accomplished by anisotropic wet etching using micromachining technology for implementation of integrated slim optical pickup and the process condition is also established for improving the mirror surface roughness. Until now, few results have been reported about the production of highly stepped 9.74° off-axis-cut silicon wafers using wet etching. In addition rough surface of the mirror is achieved in case of long etching time. Hence a novel method called magnetorheolocal finishing is applied to enhance the surface quality of the mirror plane. Finally, areal peak to valley surface roughness of mirror plane is reduced about 100㎚ in large area of ㎟ and it is applicable to optical pickup using infrared wavelength.
#Silicon mirror(실리콘 미러) #Micromachining(미세가공) #Optical pickup(광픽업) #Anisotropic etching(비등방성 식각) #Magnetorheological fluid(자기유변유체)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 연구목적 및 배경
3. 실리콘 미러 제작
4. MRF 공정
5. 결론
참고문헌

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