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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.24 No.1
발행연도
2007.1
수록면
64 - 70 (7page)

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A long-exposing technique (LET) has been conducted to create nanoscale patterns applicable to diverse micro-devices using two-photon polymerization (TPP). By the weakly-polymerized region via the LET, double-layered embossing patterns can be fabricated simply in a single step. The LET makes possible a voxel and its surrounding to be fully grown into more than 500㎚ in lateral size and weakly-polymerized region (WPR), respectively. In the WPR, interconnecting ribs between voxels are generated, and they lead to the creation of double-layered dot patterns. Moreover, by controlling the distance between voxels, various shapes of interconnecting rib can be fabricated when the LET is applied. Various embossing patterns were fabricated to evaluate the usefulness of the proposed technique as a novel nanopatterning technique in TPP.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 복셀 생성에 대한 기초연구
3. 엠보싱 패턴 제작방법
4. 다양한 엠보싱 패턴제작
결론
후기
참고문헌

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