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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2004.10
수록면
31 - 36 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2005

근접장나노리소그라피를 이용한 광폴리머박막상의 나노패터닝
권상진 ,  정성호 ,  장원석 외 2명 한국레이저가공학회 학술대회 논문집 2005.01 학술대회자료

2004

근접장현미경을 이용한 폴리머박막 나노리쏘그라피 공정의 특성분석
권상진 ,  김필규 ,  장원석 외 1명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2004.10 학술대회자료
He-Cd 레이저와 근접장현미경을 이용한 폴리머박막 나노리소그라피 공정의 특성분석
권상진 ,  김필규 ,  천채민 외 3명 한국레이저가공학회지 2004.01 학술저널

초록· 키워드

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The shape and size variations of the nanopatterns produced on a positive photoresist using a near-field scanning optical microscope(NSOM) are investigated with respect to the process variables. A cantilever type nanoprobe having a 100㎚ aperture at the apex of the pyramidal tip is used with the NSOM and a He-Cd laser at a wavelength of 442㎚ as the illumination source. Patterning characteristics are examined for different laser beam power at the entrance side of the aperture(Pin), scan speed of the piezo stage(V), repeated scanning over the same pattern, and operation modes of the NSOM(DC and AC modes). The pattern size remained almost the same for equal linear energy density. Pattern size decreased for lower laser beam power and greater scan speed, leading to a minimum pattern width of around 50㎚ at Pin=1.2μW and V=12㎛/. Direct writing of an arbitrary pattern with a line width of about 150㎚ was demonstrated to erify the feasibility of this technique for nanomask fabrication. Application on high-density data storage using azopolymer is discussed at the end.
#Nanolithography(나노리쏘그라피) #Nanopatterning(나노패터닝) #Near-field(근접장) #Nanodot(나노점) #Nanoprobe(나노프로브) #NSOM(근접장현미경)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
후기
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