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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2004.10
수록면
20 - 25 (6page)

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Controlling the cure depth of the Fa1260T photopolymer enhances the quality of a microstructure and minimizes its size in microstereolithography. In this work, variation of cure depth of the Fa1260T photopolymer is investigated while the concentration of a photopolymerization inhibitor as a radical quencher was varied. The energy source inducing photopolymerization was a He-Cd laser and a motorized stage controled the laser beam path accurately. The effects of process variables such as laser beam power and scan speed on the cure depth were examined. Optimum conditions for the minimum cure depth were determined as laser power of 230μW and scan speed of 40-50㎛/s at the concentration of the radical quencher of 5%. The minimum cure depth at the optimal condition was 14㎛. The feasibility of the fabrication of microstructures such as a microcup, microfunnel, and microgrid of 100 m size is demonstrated using μ Super IH process.
#Microstereolithography(마이크로광조형) #Rapid prototyping(쾌속조형) #Radical quencher(중합억제제)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
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