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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제16권 제6호
발행연도
2006.12
수록면
283 - 286 (4page)

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고밀도 자기기록용 Ba-페라이트/SiO₂ 자성박막에서 계면확산 장벽으로써 α-Al₂O₃ 버퍼층의 역할을 연구하였다. 열처리동안 1900 Å의 두께를 가진 비정질 Ba-페라이트/SiO₂ 박막에서 계면확산은 약 700 ℃에서 일어나기 시작하였다. 열처리온도를 800 ℃까지 증가시켰을 때, 계면확산은 자기특성을 저하시킬 정도로 급격히 진행되었다. 고온에서의 계면확산을 억제하기 위하여, 110Å두께의 α-Al₂O₃ 버퍼층을 Ba-페라이트/SiO₂ 박막의 계면에 증착하여 사용하였다. Ba-페라이트/α-Al₂O₃/SiO₂ 박막에서는 800 ℃의 고온까지 열처리하여도 계면확산이 심각하게 일어나지는 않았다. α-Al₂O₃ 버퍼층에 의하여 계면확산이 억제되기 때문에 Ba-페라이트 자성박막의 포화자속밀도와 보자력이 향상되었다. 따라서 Ba-페라이트/SiO₂ 박막의 계면에서 α-Al₂O₃ 버퍼층은 SiO₂ 기판성분의 계면확산 장벽으로 사용될 수 있다.
#Ba-페라이트/SiO₂ 자성박막 #α-Al₂O₃ 버퍼층 #계면확산 장벽 #방사광 X-선 산란 #Ba-ferrite/SiO₂ magnetic thin films #α-Al₂ O₃ buffer layer #interfacial diffusion barrier #synchrotron X-ray scattering

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

참고문헌 (1)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - / 1993 / Appl. Phys. Lett. 63 11 google schola

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