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한국조명·전기설비학회 조명·전기설비학회논문지 조명·전기설비학회논문지 제18권 제1호
발행연도
2004.1
수록면
52 - 59 (8page)

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미립자 플라즈마란 입경이 수[㎛]이하의 거의 일정한 크기를 가진 미립자가 다수로 생성 및 유지되면서, 정 또는 부외 전하를 가지고 기체 플라즈마 중에 부유하는 상태를 말한다. 플라즈마 프로세스에서는 이러한 미립자가 집적 회로에 중착되어 막의 열화, 회로 배선의 불량 및 단선 등의 약영향을 끼치는 것으로 인식되고 있으며, 이러한 부분 에 대한 억제나 제어에 관한 연구가 진행되고 있다.
본 연구에서는 유체 모델을 이용한 시뮬레이션으로부터 방전 챔버내의 Ar 플라즈마의 현상을 이해하고, Ar 플라즈마 중에 미립자를 투입하여 그 움직임을 분석하여, 플라즈마 중의 미립자 운동의 핵석 결과로서는, 하부 전극 면위에 비교적 규칙성을 갖는 미립자가 배열하는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 약 전리 플라즈마에서는 전지의 이동로가 크기 때문에 미립자의 대전량은 평균 전자 에너지에 크게 의존하는 것을 알 수 있었다.
#미립자 플라즈마 #RF Ar Plasma #Poisson 분포 #쉬스 영역

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 모델링
3. 시뮬레이션 결과 및 고찰
4. 결론
References
◇저자소개◇

참고문헌 (10)

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