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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제12권 제5호
발행연도
2002.10
수록면
184 - 188 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2002

이온 조사된 Cu / Ni / Cu(001) / Si 자성박막에 있어서 X-ray reflectivity를 이용한 계면 연구
김태곤 ,  송종한 ,  이택휘 외 8명 한국자기학회지 2002.10 학술저널
이온 조사된 Cu / Ni / Cu(002) / Si 자성박막에 있어서 X - ray reflectivity를 이용한 계면 연구
김태곤 ,  송종한 ,  이택휘 외 7명 한국진공학회 학술발표회초록집 2002.06 학술대회자료

초록· 키워드

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수직자기이방성을 가지는 Cu/Ni/Cu(002)/Si(100) 자성박막을 전자빔 증발법을 이용하여 초고진공에서 증착하였다. 증착 시 RHEED로 측정 한 결과 실리콘 기판 위에 자성박막이 적층성장되었음을 확인하였다. 이러한 Cu/Ni/Cu(001)/Si(100) 자성박막에 1 MeV C 이온을 이온선량 2×10^(16) ions/㎠로 조사한 후 MOKE로 자기이력곡선을 측정한 결과 이온 조사에 의해 자화용이축이 수직에서 수평방향으로 변화되었음을 확인하였다. 포항 방사광가속기를 이용하여 X-선 반사도와 Grazing Incident X-ray diffraction(GID) 분석을 수행한 결과 첫번째 Cu층과 Ni층 사이의 계면은 이온 조사 후 거칠기는 증가하였으나, Cu와 Ni의 전자밀도의 대비는 더욱 명확해졌다. 그리고, 증착 후 Cu와 Ni 원자의 격자 상수 차이에 의해 Ni 층이 가지고 있었던 strain은 이온 조사 후 완화되었음을 알 수 있었다. 끝으로, 이온조사 시 자성특성 변화와 직접적인 관계가 있는 strain 완화, 계면 혼합층(혹은 새로운 상) 등이 생성되는 기구를 탄성충돌 및 비탄성충돌에 의한 열화학적 구동력으로 규명하였다.

목차

국문초록

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험

Ⅲ. 실험 결과 및 토의

Ⅳ. 결론

감사의 글

참고문헌

Abstract

참고문헌 (0)

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