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대한기계학회 Journal of Mechanical Science and Technology Journal of Mechanical Science and Technology Vol.19 No.11[Special Edition]
발행연도
2005.11
수록면
2,112 - 2,121 (10page)

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Nanoprobe-based lithography techniques have attracted tremendous interst. However, most of these techniques have the several technical problems still to be resolved such as low throughput, reproducibility, extensive processing time and tip-wear problem. We considered that a patterning process with a multi-array tip can be a solution. The purpose of this study is to build up the database in order to design a multi-array tip for patterning. In this study, the effects of tip-geometry factors (indenter shape and tip radius) and process parameters (pattern pitch and normal load) on the deformation behaviors and etching chracteristics of hard-brittle materials (Pyrex 7740 glass and silicon) were investigated by using both experiment and finite element analysis. The results of the investigation will be applied to the design of the multi-array tip for patterning.

목차

Abstract

1. Introduction

2. FEM Modeling and Experiments

3. Results and Discussion

4. Summary

Acknowledgments

References

참고문헌 (18)

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