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나트륨 이온의 용출을 방지하기 위해 LCD용 유리기판위에 입혀진 SiO₂ 박막의 굴절율 및 두께를 측정하였다. 입사각을 고정하고 박막의 두께를 0 Å부터 주기 두께까지 20 Å씩 증가시키며 계산한 타원해석상수와 두께를 고정하고 입사각을 45°에서 70°까지 1°씩 증가시키며 계산한 타원해석상수를 이용하여 LCD용 유리기판위에 증착된 SiO₂ 박막의 굴절율 및 두께 측정에서의 최적 측정 조건을 구하였다. 최적 측정 조건에서 굴절율 및 두께의 변화에 따른 타원해석상수 △와 Ψ의 변화를 계산하여 △와 Ψ 측정 상의 오차와 비교하여 굴절율 및 두께 결정 시의 오차를 추정하였다. 최적 측정 조건인 Brewster 각 근방에서의 여러 입사각에서 LCD용 유리기판위에 입혀진 SiO₂ 박막의 타원해석상수 △와 Ψ를 측정하고, 이 측정값에 최적 맞춤하는 SiO₂ 박막의 굴절율 및 두께를 회귀분석방법을 사용하여 전산 계산하고 분광타원해석법에 의한 박막의 두께 및 굴절율과 비교하였다.
목차
국문초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 시료 준비 및 실험 방법
Ⅲ. 이론 및 분석
Ⅳ. 결과 및 토의
Ⅴ. 결론
참고문헌
Abstract
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UCI(KEPA) : G300-j12256285.v8n1p31