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본 연구에서 설계제작된 KrF 엑시머 레이저 스텝퍼는 광원인 KrF엑시머 레이저, 조명광학계, 축소투영광학계, 정밀구동 웨이퍼 스테이지, 정렬시스템 및 이들을 제어하기 위한 제어계로 구성되어 있다. 본 실험에서 사용한 KrF엑시머 레이저는 밴드폭 3 pm, 반복주파수 200 ㎐, 평균출력 3 W이고, 5 : 1 투영렌즈는 N.A. 0.42, 전체 필드영역 p21.1 ㎜, 왜곡수차 최대 60 ㎚ 이하이다. 또한 정밀구동 웨이퍼 스테이지의 재현성과 해상도는 각각 ±0.08 ㎛/200 ㎜(3 sigma), 100 ㎜ 반경에서 0.05 ㎛이다. 자동초점 시스템은 ±50 ㎛범위에서 0.1 ㎛의 해상도를 나타냈으며, 자동수평시스템은 120 arcsec 범위에서 larcsec의 해상도를 나타냈다. OFF-AXIS 정렬방식에서는 0.2 ㎛의 해상도를 가지며, 두빔의 간섭을 이용한 새로운 TTL 정렬은 0.1 ㎛의 해상도를 나타냈다. 스텝퍼 패턴 실험결과 SAL603레지스트를 사용하였을때 웨이퍼의 노광후 열처리 105℃, 60초에서 0.3 ㎛ Lines and Spaces(L/S)까지 해상되었으며, 0.34 ㎛ L/S에서 1 ㎛의 초점심도를 얻을 수 있었다. 마스크 패턴과 레지스트 패턴의 선형성은 0.4 ㎛ L/S까지 유지 되었다. 또한 XP-89131레지스트의 경우 노광후 열처리 110℃, 60초에서 0.34 ㎛ L/S까지 해상됨을 알수 있었다.
목차
국문초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 시스템 구성
Ⅲ. 정렬시스템
Ⅳ. 패턴실험
Ⅴ. 결론
참고문헌
Abstract
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