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논문 기본 정보

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한국분석과학회 분석과학 분석과학 제5권 제3호
발행연도
1992.9
수록면
303 - 308 (6page)

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Ti과 Si의 초기 반응이 Titanium Silicide의 표면 거칠기 (Surface roughness)를 고찰하기 위해 연구하였다. 형성기구는 In-situ AES와 LEED의 측정장비로 연구하였다. Ti의 하나나 두 원자층이 초고진공에서 원자적으로 깨끗한 Si 기판 위에 증착되었다. Reconstruction이 된 7×7 Si(111) 표면이 초고진공에서 얻어졌으며 박막의 증착은 Quartz Crystal Oscillator로 측정되었다.

목차

요약

Abstract

1. Introduction

2. Experimental Procedure

3. Results

4. Discussion

5. Summary

References

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