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Korean Institute of Information Scientists and Engineers 한국정보과학회 학술발표논문집 한국정보과학회 2001년도 가을 학술발표논문집 제28권 제2호(Ⅲ)
발행연도
2001.10
수록면
1 - 3 (3page)

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VLSI칩 내부에서 길이가 긴 도선을 통해서 데이터를 보낼 때, 누화(crosstalk)의 영향으로 데이터 값에 따라 지연시간이 변한다. 그리고 지연시간이 변화폭도 CMOS공정이 초미세화됨에 따라서 더욱 커진다. 본 논문에서는 ... 전체 초록 보기

목차

요약

1. 개요

2. 도선에서의 지연시간

3. 데이터 초기화에 기반한 단일선 4 - 위상 프로토콜

4. 누화로 인한 도선지연

5. 결론

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