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Bi-superconducting thin film is fabricated via both processes of layer-by-layer deposition and co-deposition at an ultralow growth rate using ion beam sputtering method. These two processes show a significant difference in the adsorption of Bi atom as well as in the appearance of Bi-2212 phase. It is found that the resident time of Bi vapor species on the surface of the substrate strongly dominates the film composition and the formation of the structure.

목차

Abstract

Ⅰ. Introduction

Ⅱ. Experimental

Ⅲ. Results and discussion

Ⅳ. Conclusions

References

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-569-017766259