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전력전자학회 전력전자학회논문지 전력전자학회 논문지 제6권 제5호
발행연도
2001.10
수록면
394 - 399 (6page)

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반도체 생산 공정에 있어 , 저압 화학적 기상 증착 (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 과 프라즈마 강화 화학적 기상 증착 (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정 후 발생된 환경 유해 가스를 효과적으로 세정하기 위한 장비인 건식 세정기 (dry scrubber) 의 전원장치에 대한 연구이다. 주 전력회로는 1500W, 스위칭주파수 100kHz 의 위상 변위 풀 브리지 (Phase Shift Full-Bridge) 방식의 인버터와 100kHz 저역 통과 필터 및 임피던스 변환기로 구성되었다. 모드해석과 모의실험을 통하여 회로방식의 타당성을 확인하였고 50Ω dummy load 및 chamber 실험을 통하여 다양한 부하조건에서도 프라즈마를 안정되게 발생시킬 수 있음을 확인하였다.

목차

요약

ABSTRACT

1.서론

2.고주파 전원장치

3.모의 실험 및 실험 결과

4.결론

참고문헌

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