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유기금속 화학기상 증착법(MOCVD)을 이용하여 사파이어 기판에 AlGaN/n^(+)-GaN 구조와 AlGaN/ AlGaN interlayer/n^(+)-GaN 구조로 성장시킨 AlGaN 층을 이용하여 쇼트키형 자외선 수광소자를 제작하였다. 성장층은 약 10^(18)의 캐리어 농도와 각각 236과 269 ㎠/V·s의 이동도를 가진다. 메사구조를 형성하기 위해 ICP 장비로 식각한 후, Si₃N₄로 절연한 뒤 Ti/Al/Ni/Au와 Pt를 이용하여 저항성 전극 및 쇼트키 전극을 형성하였다. 그리고 interlayer를 갖는 Pt/Al_(0.33)Ga_(0.67)N의 전기적 특성은 -5 V에서 1 ㎁의 낮은 누설전류를 보였고, interlayer가 없는 Pt/Al_(0.33)Ga_(0.67)N은 0.1 ㎂로 나타났다. 광측정 결과, interlayer를 갖는 Pt/Al_(0.33)Ga_(0.63)N 쇼트키 수광소자는 차단파장이 약 300 ㎚이며, 광응답도는 280 ㎚에서 0.15 A/W, 그리고 자외선 대 가시광선 제거비는 1.5×10⁴로 우수한 반응특성을 보였다.

목차

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험방법

Ⅲ. 결과 및 고찰

Ⅳ. 결론

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