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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1988.11
- 수록면
- 1,342 - 1,349 (8page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (2)
1988
플라즈마 변수에 의한 불순물주입 다결정실리콘 박막의 식각율 변화 ( Etch Rate Dependence of Differently Doped Poly-Si Films on the Plasma Parameters )
박성호
,
김윤태
,
김진섭
외 2명
전자공학회논문지
1988.11
학술저널
결정립크기 및 도우핑조건이 C12-SF6 가스 플라즈마에서의 다결정 실리콘의 식각특성에 미치는 영향 ( Effect of Grain Size and Doping Conditions on the Etch Characteristics of Polysilicon Films in a SF6-C12 Gaseous Plasma )
박성호
,
김상호
,
유형준
대한전자공학회 학술대회
1988.01
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