A Study on Modified Silicon Surface after CHF3/C2F6 Reactive Ion Etching

Hyung-Ho Pa ,  k ,  Kwang-Ho Kwon 외 7명

[ETRI] ETRI Journal

1994 .02

Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

HBr/Ar/CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의 유도결합 플라즈마 식각

김문근 ,  함용현 ,  권광호 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Via Contact 형성을 위한 산화막 식각공정의 신경망 모델

배윤규 ,  권성구 ,  김병환 외 4명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

수조 비등에서 표면 특성이 CHF에 미치는 영향에 대한 연구 동향 고찰

염수진 ,  안상모 ,  이승섭 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2008 .11

Prediction of dryout-type CHF for rod bundle in natural circulation loop under motion condition

Siyang Huang

Nuclear Engineering and Technology

2020 .01

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의해 변형된 실리콘 표면의 열적 거동에 관한 연구

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 5명

한국재료학회지

1992 .01

AN EXPERIMENTAL STUDY ON POST-CHF HEATTRANSFER FOR LOW FLOW OF WATER IN A 3x3 RODBUNDLE

조석 ,  문상기 ,  SE-YOUNG CHUN 외 2명

Nuclear Engineering and Technology

2005 .01

Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon의 Deep Groove Etching

박성호 ,  전영진 ,  박신종

대한전자공학회 학술대회

1985 .06

Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon 의 Deep Groove Etching ( Deep Groove Etching of Silicon by Reactive Ion Etching )

박성호 ,  전영진 ,  박신종

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

CHF3/C2F6 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 오염 및 제거에 관한 연구 ( A Study on the Silicon surface and near-surface contamination by CHF3/C2F6 RIE and its removal with thermal treatment and O2 plasma exposure )

권광호 ,  박형호 ,  이수민 외 4명

전자공학회논문지-A

1993 .01

초음파에 의한 평판에서의 임계열유속 증진에 대한 실험적 연구

김대훈 ,  권영철 ,  정지환

대한기계학회 춘추학술대회

2003 .04

자성 박막의 습식 식각 특성

정지원 ,  변요한

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Engineering of Bi-/Mono-layer Graphene Film Using Reactive Ion Etching

M. I ,  annejad ,  W. Alyalak 외 6명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2015 .01

CHF3 / C2F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 ( The Effects of Photoresist Layer on the Characteristics of Si-Surface Residue Induced by CHF3 / C2F6 Reactive Ion Eching )

권광호 ,  이수민 ,  이종석 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1991 .07

임계열속 오류에 따른 열적여유도 분석

류의승 ,  박동환

한국에너지학회 학술발표회

2019 .10

Characterization of Surface Damage and Contamination of Si Using Cylindrial Magnetron Reactive Ion Etching

Young ,  Yeom-Geun

한국재료학회지

1993 .01

Transient CHF Phenomena Due to Exponentially Increasing Heat Inputs

JONGDOC PARK ,  KATSUYA FUKUDA ,  QIUSHENG LIU

Nuclear Engineering and Technology

2009 .01