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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.1
- 수록면
- 134 - 144 (11page)
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Reactive diffusion couples between Fe-5.8at.%Si and (Si wafer, FeSi₂, or FeSi alloy) were heat-treated at 1423k. The only layer of Fe₃Si phase was formed in each diffusion couple. The width of Fe₃Si layer was proportional to square root of diffusion time in each kind of diffusion couple. Growth rate of Fe₃Si layer was relied on the concentration of Si in the supplied source of Si atoms. Interdiffusion coefficient of Fe₃Si has been determined from the derived relation between growth rate constant and interdiffusion coefficient in this work. It was shown that the behavior of Kirkendall's void in Fe₃Si layer was not affected by the kind of Si source. But solid solution α was formed in the diffusion couple between Fe-5.8at.%Si and Fe₃Si alloy. Kirkendall's voids in diffusional α were neglectively smaller than the case of Fe₃Si phase growth.
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