고체 확산 소오스를 사용한 인과 붕소의 실리콘으로의 2단계 고속 열 확산 ( Two-Step Rapid Thermal Diffusion of Phosphorus and Boron into Silicon from Solid Diffusion Sources )

김충기 ,  김정규

특정연구 결과 발표회 논문집

1989 .01

Two-Step Rapid Thermal Diffusion of Phosphorus into Silicon from a Solid Diffusion Source

Jeong Gyoo Kim ,  Dong Youb Lee ,  Choong Ki Kim

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

스핀온 쏘스에 의한 실리콘내의 붕소의 이단계 확산 ( Two-Step Diffusion of Boron into Silicon by Spin-on Source )

정태원

전자공학회지

1980 .10

고속열확산을 이용한 인확산 접합의 특성 분석과 다이오드 제작 ( Analyzing of Rapid Thermal Diffusion of Phosphorus and the Diode Fabrication )

노병규 ,  김종환 ,  박광균 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

Formation of Shallow Phosphorus Layers by Rapid Thermal Processing Using a Solid Diffusion Source

Kyeong-Tae Kim ,  Choong-Ki Kim ,  Byung-Jin Cho 외 1명

JOURNAL OF KIEE

1988 .09

실리콘 양극산화 방법에 의한 실리콘내의 보론과 아세닉 확산분포의 측정 ( Measurement of Diffusion Profiles Boron and Arsenic in Silicon by Silicon Anodization Method )

박형무 ,  김충기

전자공학회지

1981 .02

비정질 실리콘 박막에서 엑시머 레이저에 의한 붕소이온의 수평확산

박수정 ,  이민철 ,  강수혁 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07

고속 열확산에 의해 제작된 다이오드의 Rapid Thermal Alloy ( Rapid Thermal Alloy of Fabricated Diode by Rapid Thermal Diffusion )

이동엽 ,  이영희

전자공학회논문지-A

1992 .02

SPIN-ON SOURCE에 의한 실리콘內의 불순물 확산

金忠基 ,  鄭泰源

전기의세계

1978 .12

디지털융합제품의 수용-확산 및 사용-확산에 관한 연구 : 카메라폰을 대상으로

유상진 ,  손정임

한국산업정보학회논문지

2009 .12

A Technology Diffusion Model Based on Technology Policy : The Case of Solid-State Lighting Technology Diffusion in the U.S.

진메이웨

한국산학기술학회 논문지

2011 .06

RTA에 적용이 가능한 붕소 확산 시뮬레이터의 제작 ( Design of Boron Diffusion Simulator Applicable for RTA )

김재영 ,  홍신남

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

RTA에 적용이 가능한 붕소 확산 시뮬레이터의 제작

김재영 ,  홍신남

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Poly·Si-SiO2를 통한 저농도 붕소확산 ( Boron Diffusion of Low Concentration through Poly·Si-SiO2 )

김정회 ,  주병권 ,  김철주

전자공학회논문지

1987 .03

고압력하에서의 재료(2), 고압력하의 고체중의확산

Yamane ,  Toshimi

한국재료학회지

1993 .01

확산모형(Diffusion Model)을 이용한 새로운 서비스 수요예측

김경택 ,  박세권

대한산업공학회지

1987 .06

고속열확산 공정에 의해 형성된 Phosphorus Source/Drain을 갖는 NMOS 트랜지스터의 특성 ( Characteristics of NMOS Transistors with Phosphorus Source/Drain Formed by Rapid Thermal Diffusion )

조병진 ,  김정규 ,  김충기

전자공학회논문지

1990 .09

실리콘내 불순물 확산 공정에 관한 유한요소 해석

권오근 ,  박화식 ,  송영진 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

실리콘내 불순물 확산 공정에 관한 유한요소 해석 ( Finite Element Analysis of Impurity Diffusion in Silicon )

권오근 ,  박화식 ,  송영진 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

과도 증속 확산(TED)을 고려한 3차원 확산 시뮬레이터 개발

이제희 ,  원태영

대한전자공학회 학술대회

1997 .11