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Ti 살리사이드 공정을 이용한 오실레이터 I . C의 성능향상 ( Improvement on Frequency Characteristic of Crystal Oscillator I . C Using Ti-Salicide Process )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
티타늄 살리사이드 공정을 이용한 트랜지스터의 특성 및 오실레이터 I. C에의 적용 ( I ) ( Characteristic of Transistor Using Ti-SALICIDE Process and Its Application to Oscillator I. C ( I ) )
전자공학회논문지-A
1991 .11
TiSiz SALICIDE CONTSCT 의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1991 .07
$Li_2$형$(Ai, Cr)_3$/Ti기 2상 금속간화합물의 소성거동
한국재료학회지
1994 .01
다양한 박막층을 채용한 코발트실리사이드의 물성
한국재료학회지
2003 .01
Cu/Ti/SiO/Si 구조에서 Ti 층 두께가 Ti 반응에 미치는 효과
한국재료학회지
2002 .01
중간층 Ti 두께에 따른 CoSi의 에피텍시 성장
한국재료학회지
2003 .01
코발트살리사이드를 위한 습식세정 공정
한국표면공학회지
2002 .12
순Ti 및 Ti-6Al-4V합금의 기계적 성질에 미치는 용접조건의 영향 ( Effect of Welding Process Parameters on the Mechanical Properties of Pure Ti and Ti-6Al-4V Alloy )
대한용접학회 특별강연 및 학술발표대회 개요집
1998 .01
Ti가 함유된 스테인리스강에서 Ti, Ti/Cr코팅표면과 플라즈마질화표면의 부식특성
한국표면공학회지
2002 .12
Ti 양극산화 피막에서 Ti 및 O 원소의 화학결합 상태
한국표면공학회지
2002 .12
Ti 및 Ti계 세라믹스에 의한 Al합금의 표면복합합금화 ( Formation of Ti and Ti ceramics composite layer on aluminium alloy )
대한용접·접합학회지
1995 .03
Ti-Si-C, Ti-B-C 코팅막 내의 증착온도에 따른 미세구조와 기계적 물성 변화
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Ti 및 Ti 합금의 다공질 소결체의 제조와 기공도 제어
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
Ti 함량 변화에 따른 X선 노광 마스크용 W-Ti 흡수체의 물성 연구
한국재료학회지
2000 .01
Effects of Y and Ti addition on microstructure stability and tensile properties of reduced activation ferritic/martensitic steel
Nuclear Engineering and Technology
2019 .01
TiS₂ 전극재료 특성 평가
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1995 .05
고유전율 박막용 Pt / Ti 하부전극구조에 대한 Ti층의 두께에 따른 영향 ( Effects of Ti Thickness on Pt / Ti Bottom Electrode for High-Dielectric Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
고유전율 박막용 Pt/Ti 하부전극구조에 대한 Ti 층의 두께에 따른 영향
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
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