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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 권기청
- 발행연도
- 2022
- 저작권
- 광운대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수10
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반도체 공정에서 플라즈마가 광범위하게 사용됨에 따라 반도체 산업분야에서
공정 과정을 조절하고 결과를 예측하기 위해 플라즈마에 대한 연구가 활발히
진행되고 있다. 이에 따라 플라즈마를 이해하기 위해 플라즈마 변수를 측정하
고 특성을 분석할 수 있는 진단 기술의 중요성이 더욱 증대되고 있다. 플라즈
마 진단에 관한 기존의 연구는 국부적인 범위의 측정만 진행되고 있으며 플라
즈마를 측정하기 위해 많이 사용되는 탐침형 진단은 다양한 플라즈마 변수를
측정할 수 있다는 장점이 있지만, 탐침을 플라즈마 내부에 직접 삽입하여 측정
하므로 플라즈마에 섭동을 일으킨다는 단점이 존재한다.
플라즈마 내에서 전자기파는 플라즈마 밀도에 따라 변화하는 유전율로 인해
전파 특성이 영향을 받는다. 본 논문에서는 이러한 플라즈마의 내 전자기파 특
성을 이용하여 반사계(Reflectometer)와 간섭계(Interferometer)를 구성해 플라
즈마 밀도를 측정한다. 또한 측정된 밀도를 기존에 사용하는 진단 방법인 단일
랑뮤어 탐침(Single Langmuir Probe, SLP)으로 측정한 플라즈마 밀도와 비교
하며 실험을 진행하였다.
공정 과정을 조절하고 결과를 예측하기 위해 플라즈마에 대한 연구가 활발히
진행되고 있다. 이에 따라 플라즈마를 이해하기 위해 플라즈마 변수를 측정하
고 특성을 분석할 수 있는 진단 기술의 중요성이 더욱 증대되고 있다. 플라즈
마 진단에 관한 기존의 연구는 국부적인 범위의 측정만 진행되고 있으며 플라
즈마를 측정하기 위해 많이 사용되는 탐침형 진단은 다양한 플라즈마 변수를
측정할 수 있다는 장점이 있지만, 탐침을 플라즈마 내부에 직접 삽입하여 측정
하므로 플라즈마에 섭동을 일으킨다는 단점이 존재한다.
플라즈마 내에서 전자기파는 플라즈마 밀도에 따라 변화하는 유전율로 인해
전파 특성이 영향을 받는다. 본 논문에서는 이러한 플라즈마의 내 전자기파 특
성을 이용하여 반사계(Reflectometer)와 간섭계(Interferometer)를 구성해 플라
즈마 밀도를 측정한다. 또한 측정된 밀도를 기존에 사용하는 진단 방법인 단일
랑뮤어 탐침(Single Langmuir Probe, SLP)으로 측정한 플라즈마 밀도와 비교
하며 실험을 진행하였다.
목차
I. 서론 1II. 관련이론 22.1. Plasma 22.1.1. Plasma 정의 32.1.2. Plasma 변수 42.1.3. Plasma 소스132.1.4. Plasma 내 전자기파의 전파 192.2. Plasma 진단 기술 232.2.1. 단일 랑뮤어 탐침법 242.2.2. 이중 랑뮤어 탐침법 282.2.3. 컷오프 탐침법 302.2.4. 광학 방출 분광법 322.2.5. 간섭계 342.2.6. 반사계 38III. 실험 423.1. 연구 목적 및 필요성 423.2. 측정 시스템 구성 및 측정 원리 433.2.1. 측정 시스템 장치 구성 433.2.2. 측정 시스템 원리 503.3. 실험 조건 및 실험 563.3.1. 결과 1 : 소스 인가 전력에 따른 플라즈마 밀도 측정(단일 랑뮤어 탐침 + 반사계) 583.3.2. 결과 2 : 방전 가스 유량에 따른 플라즈마 밀도 측정(단일 랑뮤어 탐침 + 반사계) 693.3.3. 결과 3 : 소스 인가 전력에 따른 플라즈마 밀도 측정(단일 랑뮤어 탐침 + 간섭계) 703.3.4. 결과 4 : 방전 가스 유량에 따른 플라즈마 밀도 측정(단일 랑뮤어 탐침 + 간섭계) 76IV. 결론 80V. 참고 문헌 81
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