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논문 기본 정보

자료유형
학위논문
저자정보

김진수 (아주대학교, 아주대학교 대학원)

지도교수
이병옥
발행연도
2020
저작권
아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.

이용수7

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

초록· 키워드

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사출 성형 공정은 복잡한 형상과 곡면을 쉽게 성형할 수 있고, 제품의 형상과 표면이 함께 성형되어 추가적인 표면 처리가 필요 없기 때문에 외관 부품 생산에 효율적인 공정이다. 사출 성형 공정이 가지는 많은 장점에도 불구하고, 고광택 표면의 성형은 광택 불량이 쉽게 발생하므로 추가적인 장비의 도입과 제품 생산 시간의 증가로 인한 공정 효율의 감소가 불가피하다.
광택 불량 발생 기구는 고광택 사출 성형 제품 표면의 광택 차이에 대한 발생 현상을 설명하고 광택 불량이 억제되는 공정 범위를 제시한다. 성형 공정에서 발생하는 광택 차이를 설명하기 위하여, 광택과 topography가 측정되고 상관관계가 검증되었다. 광택에 대한 재료의 특성과 성형 조건의 영향이 분석되었고, 이를 종합적으로 고려하기 위한 지표를 제시하였다. 해당 지표를 통하여 광택 차이가 억제되는 공정 범위를 도출할 수 있으며, 이를 사출 성형 공정에 적용하면 많은 시행착오와 추가적인 장비의 도입 없이 광택 불량을 억제할 수 있다.
사출 성형 제품 표면의 광택 차이는 표면 거칠기에 의해서 발생하는 광 산란의 차이이다. Topography에 의한 광택 차이를 설명하는 Kirchhoff theory가 예측하는 바와 같이, 광택은 RMS 거칠기와 측면 상관 길이의 함수이다. 사출 성형된 표면의 RMS 거칠기와 측면 상관 길이는 비례 관계를 보였다. 플라스틱 표면이 금형 표면을 많이 전사할수록 표면 거칠기는 금형 표면 거칠기로 감소하였다. 따라서 광택 차이는 금형 표면의 전사 정도의 차이에 의한 거칠기의 차이이다.
사출 성형 제품 표면의 거칠기 차이는 수축으로 발생하는 거친 표면과 성형 조건에 따른 금형 표면의 전사 차이로 인하여 발생한다. 재료의 조성이 복잡할수록 불균일한 표면 수축으로 인하여 더 거친 표면이 생성되고 성형 조건에 따른 광택 변화가 심하다.
금형 표면의 전사로 인하여 거친 표면의 생성이 억제된다. 새로운 표면이 생성되는 충전 과정에서, 유동 선단의 전진으로 발달하는 압력은 금형 표면의 전사를 향상하는 구동력이다. 표면 재료의 냉각으로 회복되는 표면의 강성은 금형 표면의 전사를 억제하는 저항력이다. 금형 표면 전사에 작용하는 두 인자에 의하여 최종적으로 성형되는 표면의 거칠기가 달라진다. 압력과 표면 강성의 비율인 replication factor를 통하여 금형 표면의 전사에 대한 두 영향의 균형을 정량적으로 고려할 수 있다.
Replication factor를 이용하여 광택이 일정해지는 공정 범위를 도출할 수 있으며, 해당 공정 범위에서 광택 불량의 억제가 검증되었다. 금형 표면의 전사에 대한 압력과 온도의 영향은 replication factor를 통하여 중첩되어 고려될 수 있으므로, 금형 온도 조절 없이 사출 속도를 조절하여 온도와 압력에 의한 광택 변화 특성을 파악할 수 있다. 적은 수의 실험으로 광택 차이가 억제되기 시작하는 임계 replication factor를 얻을 수 있다. 성형 공정과 재료의 물성에 의하여 계산되는 replication factor가 임계 replication factor를 넘는 성형 조건이 광택 불량이 억제되는 공정 범위이며, 이를 실험적으로 검증하였다.

목차

요약문 i
차례 iii
그림 차례 vi
표 차례 xi
사용기호 및 약어 xiii
제1장 서론 1
1.1. 표면 품질의 중요성 1
1.2. 외관 부품 성형을 위한 사출 성형 공정의 이점 2
1.3. 광택 불량 2
1.3.1. 표면 불량 3
1.3.2. 문제점 5
1.4. 연구 목적 7
1.5. 연구 범위 및 방법론 7
제2장 접근방법 15
2.1. 광택 불량 발생 기구 15
2.2. 광택 불량 제어 17
제3장 배경 이론 및 연구 19
3.1. 플라스틱 재료 19
3.2. 사출 성형 공정 단계 40
3.2.2. 사출 성형기 44
3.2.3. 사출 금형 45
3.2.4. 사출 성형 실험 48
3.3. 광택 62
3.3.1. 광택 불량의 시각적 평가 65
3.3.2. 광택 측정 70
제4장 Topography-광택 상관관계 77
4.1. 광택 불량 모사 및 SEM 분석 77
4.2. 표면 특성 측정 82
4.2.1. 사출 성형 실험 82
4.2.2. 광택 분석 82
4.2.3. Topography 특성 88
4.3. Topography-광택 모델 97
4.4. 요약 103
제5장 광택 불량 발생 기구 104
5.1. 성형 조건의 영향 104
5.1.1. 유동 선단 속도 106
5.1.2. 보압 107
5.1.3. 금형 온도 108
5.2. 불균일 수축 113
5.2.1. 수축에 의한 거친 표면의 생성 114
5.2.2. 수축 표면 층 123
5.3. 금형 표면 전사 130
5.3.1. 압력 효과 134
5.3.2. 온도 효과 140
5.3.3. Replication factor 148
5.3.4. Replication factor와 광택 비교 분석 154
5.4. 요약 159
제6장 광택 불량 조절 161
6.1. 공정 범위 도출 방법론 161
6.2. 광택 변동 허용 범위 164
6.2.1. 시각 평가 164
6.2.2. 시각 평가 결과 167
6.3. 안정된 광택을 위한 Replication factor 176
6.4. Replication factor map을 이용한 공정 범위 도출 181
6.5. 검증 결과 186
6.6. 요약 192
제7장 맺음말 193
7.1. 결론 193
7.2. 추가 연구 196
참고문헌 197
Abstract 208

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