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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 발행연도
- 2017
- 저작권
- 군산대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수6
이 논문의 연구 히스토리 (3)
2017
TMP station을 이용한 UBMS(Unbalanced Magnetron sputtering) 시스템 설계와 자석 비율 및 전자석에 의한 플라즈마 형상 연구
강충현
,
주정훈
한국진공학회 학술발표회초록집
2017.08
학술대회자료
TMP station을 이용한 UBMS(Unbalanced magnetron sputtering) 시스템 개발
강충현
,
주정훈
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017.05
학술대회자료
불균형 마그네트론 스퍼터 시스템 자석 배열 및 전자석에 의한 플라즈마 형상 연구
강충현
신소재공학과
2017.01
학위논문
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Magnetron cathode의 자석 배열 설계는 target 물질 종류에 따라서 multitrack, water drop type등이 있으며 target과 substrate 사이의 공간에 플라즈마를 형성시켜서 기판에 이온 입사량을 늘리는 것이 목적이다. 산업에 사용되어 지는 300 mm wafer용 시스템은 제작비가 약 10억 원 정도 소요되며 다양한 테스트를 진행하기 위해선 많은 비용과 시간이 소요된다. 따라서 소규모 UBMS(Unbalanced magnetron sputtering) 시스템을 설계하게 되었다. 61 l/sec 터보 분자 펌프와 다이아프램 펌프를 기초로한 TMP station에 2.75 인치 CF flange가 장착된 6 way cross를 main 챔버로 활용하고, 작은 size의 unbalanced magnetron cathode를 제작, 장착한 다음 6 way-cross 주변에 전자석을 적절히 배치하여 300 mm wafer system에서와 동일한 물리적 현상을 테스트 할 수 있도록 하였다. Power source는 Advanced Energy사의 MDX-1.5K DC power supply를 사용하였고, magnetron 배열에 따른 FEMM 4.2를 통한 simulation을 결과를 가지고 plasma 형상을 예측 하였으며, magnet array 배열을 조절함에 따라 simulation 결과와 실제 plasma 형상을 비교 분석하였다. 또한 배열에 따른 기판에서의 이온전류밀도를 측정하여 33:1 과 5.5:1 배율 설정에 따른 차이를 확인 하였으며, 6 way-cross에 전자석 역할을 위한 solenoid coil을 15turn 감아 13 A 전류를 흘려주는 것에 따른 plasma 형상 변화와 이온전류밀도를 측정하였으며, 전자석이 없는 경우 32.66 mA/cm2의 평균값이 측정되었고, 전자석 사용 후 44.98 mA/cm2의 평균값으로 그 차이를 확인 하였다.
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