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이용수4
2017
목 차ABSTRACT vi제 1장 서 론 1제 2장 이론적 배경 32.1. 치과용 임플란트 재료의 특성 32.2. 치과용 임플란트 표면처리 62.3. 하이드록시아파타이트 82.3.1. 망간 치환 122.3.2. 실리콘 치환 14제 3장 재료 및 방법 153.1. 시료준비 153.2. 플라즈마 전해 산화법(PEO)을 이용한 산화막 형성 153.3. 표면특성 평가 173.4. 전기화학적 특성 평가 173.4.1. 동전위 분극특성 173.4.2. AC 임피던스 특성 183.5. MC3T3-E1 세포를 이용한 in vitro 증식 및 부착특성 19제 4장 결과 및 고찰 204.1. 조성에 따른 표면특성 204.1.1. 표면의 형상 204.1.2. 표면의 결정상 264.2. 전기화학적 특성 334.2.1. 동전위 분극특성 334.2.2. AC 임피던스 특성 374.3. PEO 처리된 표면의 세포 증식 및 부착특성 42제 5장 결 론 44참고문헌 45
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