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이용수4
Ⅰ. 서론 1Ⅱ. ESD 현상 및 보호 방법 32.1 ESD 현상32.2 반도체에서의 ESD 파괴 현상52.3 ESD 현상의 모델과 측정72.3.1 인체 모델(Human Body Model: HBM)72.3.2 기계 모델(Machine Model: MM)82.3.3 전하 유도 모델(Charged Device Model: CDM)82.3.4 전송 라인 펄스 측정(Transmission Line Pulse)92.4 일반적인 ESD 보호 방법122.4.1 ESD 보호회로의 기본개념 122.4.2 ESD 보호소자와 설계 영역142.4.3 ESD 보호회로의 구성152.4.3.1 패드 기반 ESD 보호회로162.4.3.2 레일 기반 ESD 보호회로172.5 기존의 ESD 보호소자 182.5.1 Resistor182.5.2 Diode182.5.3 GGNMOSFET(Gate Grounded NMOSFET)192.5.4 SCR(Silicon Controlled Rectifier)21Ⅲ. 새로운 구조의 SCR 기반 ESD 보호소자 243.1 SCR 기반 ESD 보호소자의 문제 해결 방안243.2 기존 ESD 보호소자인 AHHVSCR의 구조 및 동작원리263.3 제안된 SCR 기반 ESD 보호소자의 구조 및 동작원리273.4 제안된 ESD 보호소자의 시뮬레이션293.4.1 제안된 ESD 보호소자의 시뮬레이션 특성 분석303.4.2 설계 변수에 따른 전기적 특성 분석333.4.3 혼합 모드 시뮬레이션 분석35Ⅳ. 제안된 SCR 기반 ESD 보호소자의 제작 및 측정 384.1 측정 방법 및 측정 환경 구성 384.1.1 TLP(Transmission Line Pulse) 측정384.1.2 ESD 감내특성(HBM, MM) 측정394.2 제작된 SCR 기반 ESD 보호소자의 측정 및 분석 404.2.1 TLP(Transmission Line Pulse) I-V 특성 분석404.2.2 ESD 감내특성(HBM, MM) 측정 47Ⅴ. 결론 48참고문헌 49영문요약 52
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