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이용수26
1. 서론 12. 실험 장치 및 방법 32.1 시료의 준비 32.1.1 사파이어 웨이퍼 32.1.2 AlGaN 박막의 성장 52.2 측정방법 72.2.1 고분해능 XRD 72.1.2 Photoluminescence 103. 실험결과 및 분석 113.1 사파이어 웨이퍼의 구조적 특성 평가 113.1.1 웨이퍼의 결정성 평가 113.1.2 웨이퍼의 결정면 방위(Surface orientation) 163.1.3 사파이어 웨이퍼의 표면 잔류 데미지 263.2 Al 조성에 따른 AlxGa1-xN박막의 구조적 특성 분석 373.2.1 Al 조성에 따른 AlxGa1-xN 에피층의 격자변형 373.2.2 Al 조성에 따른 AlxGa1-xN 에피층의 수직/수평 격자변형 423.2.3 AlxGa1-xN 에피층의 Al조성 분석 463.2.4 AlxGa1-xN 에피층의 Al조성에 따른 PL분석 504. 결론 54참고 문헌 57ABSTRACT 59
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