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This article provides an overview of Raman spectroscopy and its practical applications for surface analysis of semiconductor processes including real-time monitoring. Raman spectroscopy is a technique that uses the inelastic scattering of light to provide information on molecular structure and vibrations. Since its inception in 1928, Raman spectroscopy has undergone continuous development, and with the advent of SERS(Surface Enhanced Raman Spectroscopy), TERS(Tip Enhanced Raman Spectroscopy), and confocal Raman spectroscopy, it has proven to be highly advantageous in nano-scale analysis due to its high resolution, high sensitivity, and non-destructive nature. In the field of semiconductor processing, Raman spectroscopy is particularly useful for substrate stress and interface characterization, quality analysis of thin films, elucidation of etching process mechanisms, and detection of residues.
목차
Abstract
1. 서론
2. Raman Spectroscopy
3. Raman Spectroscopy in Semiconductor processing
4. 결론
References
참고문헌 (97)
참고문헌 신청
H.S. Nalwa, Handbook of surfaces and interfaces of materials, five-volume set, Elsevier, (2001).
S.Y. Ding, J. Yi, J.F. Li, B. Ren, D.Y. Wu, R. Panneerselvam, Z.Q. Tian, Nanostructure-based plasmon-enhanced raman spectroscopy for surface analysis of materials, Nature Reviews Materials, 1 (2016) 1–16.
Z. Xu, Z. He, Y. Song, X. Fu, M. Rommel, X. Luo, A. Hartmaier, J. Zhang, F. Fang, Topic review: Application of raman spectroscopy characterization in micro/nano-machining, Micromachines, 9 (2018) 361.
F. Laermer, A. Schilp, Method of anisotropically etching silicon, United States Patent US, US5501893A, 26 Mar. 1996.
R.S. Das, Y.K. Agrawal, Raman spectroscopy: recent advancements, techniques and applications, Vibrational Spectroscopy, 57 (2011) 163–176.
S.Y. Ding, J. Yi, J.F. Li, B. Ren, D.Y. Wu, R. Panneerselvam, Z.Q. Tian, Nanostructure-based plasmon-enhanced raman spectroscopy for surface analysis of materials, Nature Reviews Materials, 1 (2016) 1–16.
Z. Xu, Z. He, Y. Song, X. Fu, M. Rommel, X. Luo, A. Hartmaier, J. Zhang, F. Fang, Topic review: Application of raman spectroscopy characterization in micro/nano-machining, Micromachines, 9 (2018) 361.
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