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Shogo Maeda (Univ. Fukui) Shinsaku Kawabata (Univ. Fukui) Itsuki Nagase (Univ. Fukui) Ali Baratov (Univ. Fukui) Masaki Ishiguro (Univ. Fukui) Toi Nezu (Univ. Fukui) Takahiro Igarashi (Univ. Fukui) Kishi Sekiyama (Univ. Fukui) Suguru Terai (Univ. Fukui) Keito Shinohara (Osaka Univ.) Melvin John F. Empizo (Osaka Univ.) Nobuhiko Sarukura (Osaka Univ.) Masaaki Kuzuhara (Kwansei Gakuin Univ.) Akio Yamamoto (Univ. Fukui) Joel T. Asubar (Univ. Fukui)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.24 No.1
발행연도
2024.2
수록면
25 - 32 (8page)
DOI
10.5573/JSTS.2024.24.1.25

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We have compared the electrical performance of a proposed normally-off GaN-based MIS-HEMTs employing ultrathin AlGaN barrier layer in the channel with those of conventional recessed-gate structure MIS-HEMTs. The proposed device exhibited much less density of interface states extracted from the measured capacitance-voltage characteristics, suggesting improved Al₂O₃/AlGaN interface. For corresponding three-terminal transistors, while the conventional reference device exhibited poor control of gate-to-source voltage on drain current with about 3 V hysteresis in the transfer curves, the proposed device showed well-behaved subthreshold characteristics with only 0.8 V hysteresis. Furthermore, the proposed device showed a much higher VTH of +5 V compared to +1 V of the conventional reference device.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. EXPERIMENTAL
III. RESULTS AND DISCUSSION
IV. CONCLUSIONS
REFERENCES

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