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학술저널
저자정보
강영훈 (한국화학연구원) Han Jae Hyung Cho Song Yun 최춘기 (한국전자통신연구원)
저널정보
나노기술연구협의회 Nano Convergence Nano Convergence Vol.1 No.19
발행연도
2014.5
수록면
1 - 5 (5page)
DOI
10.1186/s40580-014-0019-1

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Resist-free antireflective (AR) nanostructured films are directly fabricated on polycarbonate (PC) film using thermal-nanoimprint lithography (T-NIL) and the moth-eye shape of AR nanostructure is elaborately optimized with different oxygen reactive ion etching conditions. Anodic aluminum oxide (AAO) templates are directly used as master molds of T-NIL for preparation of AR nanostructures on PC film without an additional T-NIL resist. AR nanostructures are well arranged with a period of about 200?nm and diameter of about 150?nm, which corresponds to those of the AAO template mold. The moth-eye AR nanostructures exhibit the average reflectance of 2% in wavelength range from 400 to 800?nm. From the results, highly enhanced AR properties with simple direct imprinting on PC film demonstrate the potential for panel application in the field of flat display, touch screen, and solar cells.
#Antireflective films Moth-eye Nanostructures Anodic aluminum oxide template Thermal nano-imprint lithography Oxygen reactive ion etching

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