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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제18권 제12호
- 발행연도
- 2017.12
- 수록면
- 865 - 870 (6page)
- DOI
- http://dx.doi.org/
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In this work, fluorine-doped tin dioxide ceramics were prepared by spark plasma sintering. In order to obtain a thin layer offluorine-doped tin dioxide with high electrical conductivity and high optical transparency in the sputtering method, it isnecessary to prepare a high density and high electrical conductivity target. To do so, tin dioxide powder and tin (II) fluoridepowder were utilized to prepare the target. The concentration of fluorine was selected based on the mass ratio of tin (II)fluoride to tin dioxide and ranged between 0.04 and 0.24 (with 0.04 increments). After the powders were mixed, the target wasmade using spark plasma sintering. The best target had a mass ratio of tin (II) fluoride to tin dioxide of 0.16, with a relativedensity of 97% and an electrical resistance of 3 × 10?4 Ω.cm. This provided a suitable candidate for a target when using thesputtering method.
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E. Fortunato / 2007 / Transparent Conducting Oxides for Photovoltaics / MRS Bull 32:242~247
T. Ogi / 2006 / Characterization of dip-coated ITO films derived from nanoparticles synthesized by low-pressure spray pyrolysis / J. Nanopart. Res. 8:343
B. Lia / 2014 / Surface Morphology and Photoelectric Properties of Fluorine-Doped Tin Oxide Thin Films Irradiated with 532Nano second Laser / Ceram. Int. 40:1627~1633
M. Girtan / 2006 / Preparation and properties of SnO2:F thin films / J. Optoel. Adv. Mat. 8:27~30
M. Seo / 2007 / Preparation and properties of Sb-doped SnO2/metal substrates by sol-gel and dip coating / Ceram. Int 33:625~629
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