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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2022.12
- 수록면
- 361 - 367 (7page)
- DOI
- 10.7735/ksmte.2022.31.6.361
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Near-filed holographic nanolithography is a method to fabricate periodic nanostructures using a phase mask comprised of nanogratings, where this method results in twice the pattern density of the phase mask. However, the practical use of this method has been limited due to low throughput and scalability. In this study, the drawbacks of the conventional holographic nanolithography were overcome by using a scanning laser beam interference lithography for making a large area phase mask, and by utilizing large area exposure with superimposition of laser beam. To confirm the feasibility of the proposed near-field holographic nanolithography, we fabricated a nanograting having a line width of 88.8nm and a pitch of 170nm onto an entire 4-in wafer from a phase mask having a pitch of 338nm.
목차
ABSTRACT
1. 서론
2. 스캐닝 근접장 홀로그래픽 리소그래피
3. 대면적 위상 마스크 제작
4. 대면적 나노구조 패턴 제작
5. 결론
References
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