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저자정보
김광배 (서울시립대학교) 김호준 (서울시립대학교) 진새라 (원익홀딩스) 임예솔 (원익홀딩스) 이현준 (원익홀딩스) 김성훈 (원익홀딩스) 노윤영 (원익홀딩스) 송오성 (서울시립대학교)
저널정보
한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제23권 제1호
발행연도
2022.1
수록면
740 - 746 (7page)
DOI
10.5762/KAIS.2022.23.1.740

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고순도 H₂ 정제용 ZrVFe 합금을 대기 중에 상온으로 보관시 발생하는 표면부의 오염을 제거하기 위한 전처리 공정으로, UVO₃ 크리닝 공정을 제안하였다. 보관 60일까지 시간에 따른 표면부 오염에 의한 물성 변화를 optical microscopy, micro-Raman, XRD 방법으로 확인하고, UVO₃ 크리닝 공정 전후 물성을 비교하였다. 상온 보관 시간에 따라 준비된 시료와 이들을 UVO₃ 공정으로 처리한 뒤 표면부에 VO<SUB>x</SUB>, FeVO<SUB>x</SUB>와 같은 Oxide계 오염물의 형성과 카본계 물질의 흡착 오염 정도에 따른 물성 변화는 광학현미경 이미지와 XRD로 확인할 수는 없었지만, micro-Raman 분석으로 오염물의 존재와 제거 여부에 대해 명확히 확인할 수 있었다. 이는 ZrVFe 합금 게터가 상온 대기 중에서 보관시간에 따라 나노급 두께의 VOx, FeVOx와 같은 금속 산화물을 형성하며, 이렇게 생성된 Oxide계 오염물은 UVO₃를 통해 비교적 간단히 제거할 수 있음을 의미하였다. 따라서 UVO₃ 크리닝 공정으로 ZrVFe 합금의 표면부 오염층을 효과적으로 제거할 수 있으며, 오염물이 제거된 ZrVFe 합금은 향상된 고순도 H₂ 가스 정제 기능을 가질 수 있었다.

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (9)

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