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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.11
- 수록면
- 40 - 40 (1page)
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반도체 공정관리용으로 사용되고 있는 사불화규소, 포스핀 및 디보란 혼합가스는 Epitaxy(얇은 박막 결정을 성장시키는 과정), Etching(식각공정), 이온주입, Doping(조절된 양의 불순물 도펀트를 반도체에 넣는 과정)용으로 사용되어 반도체 품질에 중요한 역할을 하지만 일부 특수가스 업체에서 생산하고 있으나 소급성 있는 표준물질은 사용하고 있지 않다. 표준물질 수요자가 부정확하거나 잘못된 표준물질을 사용하는 경우가 많아 측정의 신뢰도가 저하되고 궁극적으로는 원가상승, 공산품의 품질수준의 저하 등 많은 문제점을 야기하고 있다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 반도체회사에 소재를 공급하는 업체에서 공정관리용으로 사용되고있다. 사불화규소, 포스핀 및 디보란 표준가스를 개발 절차에 따라 사불화규소 10 μmol/mol, 포스핀 100 μmol/mol 및 디보란 100 μmol/mol을 최종목표로 개발하고 국제표준물등록센터(COMAR) 등록 및 산업체에 보급하고자 한다. 본 ... 전체 초록 보기
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