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Jun Li (Shanghai University) You-Hang Zhou (Shanghai University) De-Yao Zhong (Shanghai University) Chuanxin Huang (Shanghai University) Jian Huang (Shanghai University) Jianhua Zhang (Shanghai University)
저널정보
대한금속·재료학회 Electronic Materials Letters Electronic Materials Letters Vol.14 No.6
발행연도
2018.1
수록면
669 - 677 (9page)

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In this work, the high κ Zr x Al 1−x O y fi lms with a diff erent Zr concentration have been deposited by atomic layer deposition,and the eff ect of Zr concentrations on the structure, chemical composition, surface morphology and dielectric propertiesof Zr x Al 1−x O y fi lms is analyzed by Atomic force microscopy, X-ray diff raction, X-ray photoelectron spectroscopy andcapacitance-frequency measurement. The eff ect of Zr concentrations of Zr x Al 1-x O y gate insulator on the electrical propertyand stability under negative bias illumination stress (NBIS) or temperature stress (TS) of ZnSnO (ZTO) TFTs is fi rstlyinvestigated. Under NBIS and TS, the much better stability of ZTO TFTs with Zr x Al 1−x O y fi lm as a gate insulator is due tothe suppression of oxygen vacancy in ZTO channel layer and the decreased trap states originating from the Zr atom permeationat the ZTO/Zr x Al 1−x O y interface. It provides a new strategy to fabricate the low consumption and high stability ZTOTFTs for application.

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