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학술저널
저자정보
김명준 (Hannam University) 조재흥 (Hannam University) 김경한 (Korea Institute of Machinery and Materials)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조학회지 Vol.30 No.6
발행연도
2021.12
수록면
505 - 513 (9page)
DOI
10.7735/ksmte.2021.30.6.505

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The cleaning of particles below 1 μm on a substrate is a major concern in the display panel industry. The focused femtosecond Yb:KGW laser beam with an intensity of 2.42×10<SUP>14</SUP> W/㎠ is used for particle cleaning on a glass substrate. The force action of the shockwaves induced by the tightly focused laser beam presses down on particles and the particles are detached on the surface of the glass substrate. An image analysis software was used to measure the particle removal ratio. Over 110 shots of laser pulses were found at the optimal condition. A gap of less than 70 μm should be chosen between the focused laser beam and the particles for excellent laser cleaning on a glass substrate. With the smaller gap, the particle removal ratio can reach 95%; however, the surface of the glass substrate can be damaged within the beam propagation field.
#Laser cleaning #Femtosecond laser #Glass substrate #Shockwave #SiO₂ Particle

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험 장치 및 실험 방법
3. 실험 결과
4. 결론
References

참고문헌 (12)

참고문헌 신청
Mark Dai Joong Auch / 2002 / Ultrathin glass for flexible OLED application / Thin Solid Films 417(1-2):47~50 Crossref J. Graf / 2007 / Matrix laser cleaning: a new technique for the removal of nanometer sized particles from semiconductors / Applied Physics A 88(2):227~230 Crossref Zhang, C. L. / 2011 / Laser Cleaning Techniques for Removing Surface Particulate Contaminants on Sol-Gel SiO2 Films / Chinese Phys. Lett. 28(7):074205 Crossref P. Frank / 2008 / Infrared steam laser cleaning / Applied Physics A 93(1):1~4 Crossref Jung-Kyu Park / 2012 / Removal of nanoparticles from a silicon wafer using plasma shockwaves excited with a femtosecond laser / Applied Surface Science 258(17):6379~6383 google schola

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