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Yuanyuan Wang (Nanjing University)
저널정보
한국고분자학회 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 한국고분자학회 2021년도 추계학술대회 연구논문 초록집 제46권 제2호
발행연도
2021.10
수록면
154 - 154 (1page)

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Photolithograph is an important manufacturing process that relies on using organic or polymer photoresists. Here, we demonstrate a general technique named DOLFIN to prepare photosensitive inks and direct pattern inorganic nanocrystals (NCs) and sol-gel nanomaterials. By using surface ligands with photochemically active species, NCs can be easily converted into to stabilize NCs, a series of novel NC inks that can be directly patterned not only with DUV, but also with near UV l ... 전체 초록 보기

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