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학술저널
저자정보
이윤성 (강릉원주대학교) 김선욱 (한국세라믹기술원) 이영진 (한국세라믹기술원) 이지선 (한국세라믹기술원) 신동욱 (한양대학교) 김세훈 (강릉원주대학교) 김진호 (한국세라믹기술원)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제33권 제5호
발행연도
2020.1
수록면
373 - 379 (7page)

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본 연구에서는 졸-겔법과 열처리 온도 조건을 이용하여 cBN 입자 표면에 TiN을 코팅하였다. 졸-겔 공정을 이용하여 cBN 입자 표면에 균일한 TiOx 비정질층을 형성하였고, 95%N2-5%H2 분위기에서 1000~1300℃로 1~6시간 열처리하였다. TiOx 코팅층은 열처리 온도가 증가함에 따라 Ti 이온이 감소하고, 이에따라 TiO2 → Ti6O11 → Ti4O7 → TiN 순서로 상변이가 확인되었다. TiN 코팅층은 1200℃ 열처리 온도부터 관찰되었고, 1300℃에서 주요상이 확인되었다. 1300℃에서 TiN 코팅층의 두께는 45~50 nm로 확인되었다.
#Cubic boron nitride #cBN #TiN

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G. Zhao / 2019 / Diamond Relat. Mater 100:107589 Crossref H. Zhang / 2019 / Int. J. Refract. Met. Hard Mater 78:178 Crossref M. Hashimoto / 2018 / Precis. Eng 51:186 Crossref J. G. Zhang / 2013 / Int. J. Refract. Met. Hard Mater 41:285 Crossref E. Korkmaz / 2017 / Procedia Manuf 10:683 Crossref

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