Highly Fluorinated Polymer Photoresist Composed of Spiropyranyl and Perfluoroalkyl Methacrylate Monomers for Organic Light Emitting Diode (OLED) Displays Process

최승수; 이진균

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 최승수 (인하대학교) 이진균 (인하대학교)

저널정보: 한국고분자학회 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 한국고분자학회 2021년도 춘계학술대회 연구논문 초록집 제46권 제1호

발행연도: 2021.4

수록면: 68 - 68 (1page)

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2022

Synthesis of Highly Fluorinated Polymer Photoresist containing Si atoms for Photo-patterning of Organic Light Emitting Diode (OLED) Displays

최승수 고분자환경융합공학 2022.01 학위논문

2021

Highly Fluorinated Polymer Photoresist Composed of Spiropyranyl and Perfluoroalkyl Methacrylate Monomers for Organic Light Emitting Diode (OLED) Displays Process

최승수 , 이진균 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2021.04 학술대회자료

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We synthesized highly fluorinated polymers and used as a photoresist in an OLED display process. FSI-0, a copolymer was synthesized by using a radical polymerization reaction of 1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl methacrylate (FOMA) and spiropyranyl methacrylate (SPMA), which are highly fluorinated monomers, and dissolved in fluorous solvent to form a thin film. As a result of UV irradiation, a negative pattern was obtained in which the exposed portion was not dissolved i ... 전체 초록 보기

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