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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
박종국 (LIG넥스원) 채희덕 (LIG넥스원) 주정명 (LIG넥스원) 강맹창 (LIG넥스원)
저널정보
한국전자파학회 한국전자파학회논문지 한국전자파학회논문지 제31권 제12호(통권 제283호)
발행연도
2020.12
수록면
1,004 - 1,012 (9page)

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본 논문에서는 직사각형이나 원형 등의 단순 정형화 형태가 아닌 대칭적 임의 형상을 가진 평면 배열(planar array)에서, 주빔 영역이 아닌 전공간에서의 최대 부엽 수준이 원하는 수준을 넘지 않도록, 진폭 가중치를 최적화하는 효율적인 방법을 제시하였다. 일반적으로 적용할 수 있는 테일러(Taylor) 가중치를 초기값으로 하여 전 공간에서의 패턴을 계산한 다음, 이전 진폭 가중치에 미소 가중치를 더함으로써 원하는 수준 이상 부엽 위치에서의 첨두치를 원하는 수준으로 제한하도록 하였다. 이렇게 얻어진 새로운 가중치를 이용하여 위 과정을 반복함으로써, 원하는 가중치를 효율적으로 얻을 수 있음을 확인하였다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 부엽 수준 최적화 알고리즘
Ⅲ. 부엽 수준 최적화 시뮬레이션 결과 비교
Ⅳ. 결론
References

참고문헌 (10)

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