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자료유형
학술저널
저자정보
김상모 (가천대학교 전기공학과) 박용서 (가천대학교 전기공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제13권 제2호
발행연도
2014.1
수록면
13 - 16 (4page)

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We prepared the ITO/Ag multilayer thin films on soda-lime glass substrate by the Facing Target Sputtering System (FTS) at room temperature. To confirm the effect of Ag layer in ITO/Ag multilayer thin films, we have prepared various range of Ag layer in its thickness and investigated prior to the setting of ITO/Ag multilayer thin films. The thickness of Ag layer was controlled by the sputtering deposition time. Properties of as-prepared samples were investigated by using a four-point probe, UV-Visual spectrometer with a spectral visual range (400 - 800 nm) and X-ray diffractometer (XRD). As a result, the transmittance of as-prepared samples turned out to be very low in the visible range due to light-scattering on the surface of thin film as the thickness of Ag layer got increased. However, reduction of phenomenon of light-reflection in visual range was observed around 20nm of Ag thickness. We prepared the ITO/Ag multilayer thin film with a resistivity of about $8{\times}10^{-5}[{\Omega}-cm]$ and a transmittance of more than 80 % at 550 nm.
#ITO #Ag #multilayer thin films #FTS

목차

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참고문헌 (7)

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T. Minami / 2008 / Present status of transparent conducting oxide thin film development for ITO substitutes / Thin Solid Films 516:5822~5828 google schola E. Bertran / 2003 / RF sputtering deposition of Ag/ITO coatings at room temperature / Solid State Ionics 165:139~148 google schola S. H. Oh / 2012 / Relationship between surface plasmon and transmittance enhancement in indium–tin-oxide/Ag/indium–tin-oxide multilayer electrodes / Thin Solid Films 520:3605~3608 google schola K. H. Kim / 2001 / Thin film properties by facing targets sputtering system / Applied Surface Science 169(170):410 google schola L. Kerkache / 2009 / Effect of oxygen partial pressure on the structural and optical properties of dc sputtered ITO thin films / Journal of Alloys and Compounds 485:46~50 google schola

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