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학술저널
저자정보
김경진 (금오공과대학교 기계시스템공학과) 김동주 (금오공과대학교 기계공학과) 박중윤 (금오공과대학교 기전공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제10권 제1호
발행연도
2011.1
수록면
1 - 6 (6page)

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In this paper, the air flow induced by the rotating flat disk is numerically investigated in a hope to better understand the air flow structures inside the wax spin coater for a silicon wafer polishing station. Due to the complex inner geometry of actual spin coater such as the casing around the rotating ceramic block and servo motor, recirculation of air flow is inevitably found on the coating target if the internal space of spin coater is closed at the bottom and it could be the possible source of contamination on the wax coating. By numerical flow simulation, we found that it is necessary to install the air vent at the bottom and to apply the sufficient air suction in order to control the path of air flow and to eliminate the air recirculation zone above the spinning surface of coating target.
#Silicon Wafer #Spin Coater #Wafer Polishing Station #Air Flow Control #CFD

목차

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Pei, Z. J / 2008 / Grinding of Silicon Wafers:A View from Historical Perspectives / International Journal of Machine Tools and Manufacture 48:1297~1307 google schola Sun, W / 2005 / Fine Grinding of Silicon Wafers:Effects of Chuck Shape on Grinding Marks / International Journal of Machine Tools and Manufacture 45:673~686 google schola Larson, R. G / 1997 / Spin Coating, Liquid Film Coating / Chapman & Hill :709~734 google schola Bornside, D. E / 1993 / The Effects of Gas Phase Convection on Mass Transfer in Spin Coating / Journal of Applied Physics 73:585~600 google schola Oztekin, A / 1995 / The Connection betweenHydrodynamic Stability of Gas Flow in Spin Coating and Coated Film Uniformity / Journal of Applied Physics 77:2297~2308 google schola

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