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자료유형
학술저널
저자정보
심효선 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) 서화일 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) 윤두협 (한국전자통신연구원)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제10권 제4호
발행연도
2011.1
수록면
65 - 70 (6page)

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These days, printed electronics attract attention from electronics industry. In this paper, the fabrication of the fine patterns by Near Field Electro Spinning (NFES) was studied by using Ag ink on silicon wafer (substrate). Two types of ink, the high viscous ink Ag-200 and low viscous ink Ag-15, were used. The fine and uniform patterns were easily fabricated by using Ag-200 because jet breakup is less occurred in high viscosity solution. As increasing flow rate of solution, aspect ratio of Ag pattern decreased. And there was optimum applied voltage for fine pattern. In case of Ag-200, the optimum applied voltage was about 2.02KV. When pattern was fabricated by NFES, the pattern width and height were affected by many factors such as viscosity, flow rate of solution, applied voltage etc.
#Near Field Electro Spinning #NFES) #direct patterning #printed electronics #fine pattern #Ag pattern

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㈜전자자료사 / 2011 / Semiconductor & Display Korea / 반도체∙FPD (279):50 google schola 지식경제부 / 2008 / 나노 전자부품용 다이렉트 나노패터닝 시스템개발(연구기획 최종 보고서) :6~68 google schola 한성옥 / 전기방사법에 의한 나노화이버 제조 및 나노복합재료에의 응용 / 한국에너지기술연구원 ETIS 분석지 24:3~4 google schola 지식경제부 / 2010 / 근접장 전기방사 방식 직접인쇄 공정기술 및 장비에 관한 기술개발(최종 보고서) :31~33 google schola J.L.Li / 2007 / EHD sprayings induced by the pulsed voltage superimposed to a bias voltage / ScienceDirect Journal of Electrostatics :750~757 google schola

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