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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
손원근 ([주]시온텍) 김태일 ([주]시온텍) 한혜정 ([주]시온텍) 강경석 ([주]시온텍)
저널정보
한국화학공학회 화학공학 화학공학 제49권 제6호
발행연도
2011.1
수록면
697 - 703 (7page)

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축전식 탈염(CDI)은 높은 비표면적을 갖는 전극에 전기화학적 원리로 이온을 흡착하여 제거하는 기술이다. CDI 기술은 낮은 전위에서 작동하기 때문에 에너지 소비가 작고, 전극을 재생할 때 산, 염기 혹은 염을 사용하지 않기 때문에 환경친화적인 기술이다. 본 연구에서 우리는 CDI 기술의 동향을 알아보기 위해 특허와 논문을 조사했다. 데이터베이스는 WIPS와 Scopus를 사용하여 얻었으며 전극기술, 모듈기술 및 응용기술에 따라 조사되었다. CDI의 기술 동향은 연도별, 국가별, 출원인별, 기술별로 조사되었다.

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