메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
고정수 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 오부국 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 김두영 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 이재영 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 이승기 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 정수화 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹) 홍순국 (LG 생산기술원 기반기술연구실 레이저/성막 기술그룹)
저널정보
한국레이저가공학회 한국레이저가공학회지 한국레이저가공학회지 제14권 제3호
발행연도
2011.1
수록면
7 - 11 (5page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
As an active emission display using emissive polymer has had much attention recently, needs for a selective patterning of emissive layer for those displays have been increased abruptly. Therefore, the various laser sources in terms of its wavelength has been used for laser direct patterning. In this work, the feasibility of those processes is examined using numerical analysis and the experimental investigation. A sample has multi-layered structure, emissive polymer on aluminum which is deposited on a glass substrate. Key factors for optimizing the laser patterning of the emissive polymer are considered into the control of ablation products, large-sized particle, and the choice of the appropriate wavelength for minimizing the heat affected zone and the remnant layer.

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0