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비구면 광학요소는 광학계에 중요한 이점을 제공하는 반면 정밀한 측정에 제한이 많기에 정밀한 비구면의 생산이 어려운 광학 요소이다. 수년 전 부분 구경 스티칭 방법(Subaperture Stitching Interferometry, 이하 SSI$^{(R)}$)의 개발과 이 기술을 기반으로 하는 장비(SSI-A$^{(R)}$)의 도입으로 비구면 형상오차의 정밀한 측정이 가능하게 되었다. 많은 비구면들이 기존의 SSI-A의 영역에 포함되지만 이에 더 나아가 VONTM(Variable Optical Null)을 도입하면 기존의 측정 영역인 비구면도(best fit sphere에서) $100{\sim}200{\lambda}$대에서 약 $1000{\lambda}$까지 확장하여 측정할 수 있다. 본고에서는 지난 2012년 10월 23일 진행된 QED의 기술강연회에서 발표된 내용 중 VONTM의 원리와 이를 이용한 SSI$^{(R)}$ 기술이 도입된 장치인 ASI$^{(R)}$(Aspheric Stitching Interferometer)의 측정결과를 그 동안 각종 학회 등에서 발표된 자료들을 통하여 소개하도록 하겠다.
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