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자료유형
학술저널
저자정보
최국종 (School of Mechanical Engineering, Yonsei Univ.) 임건 (School of Mechanical Engineering, Yonsei Univ.) 박노철 (School of Mechanical Engineering, Yonsei Univ.)
저널정보
정보저장시스템학회 정보저장시스템학회논문집 정보저장시스템학회논문집 제10권 제1호
발행연도
2014.1
수록면
1 - 6 (6page)

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Plasmonic lithography is the latest technique to overcome diffraction limit of previous optical lithography. In the plasmonic lithography, the nano gap between nano metal wave guide and photoresist should be in sub-wavelength region. SIL-based plasmonic lithography is the one of the solutions to maintain small air gap. However, the nano gap control is so sensitive that a little disturbance is able to have a large effect on the nano gap control. So, we analyzed the characteristics of disturbance, and then modified the previous controller to suppress the disturbance. We applied two peak filters which were fixed one and adaptively changeable one. We experimentally confirmed the improvement of the nano gap control, which reduced nano gap error by 30 %. The proposed control will improve the quality of lithography pattern.
#Solid Immersion Lens #SIL) #air gap #near-field #frequency estimation #peak filter

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